ТАНАКА, Юнити (JP)

Изобретение относится к регулировке искривления поля. Устройство линз включает в себя: первый оптический узел, выполненный с возможностью изменять величину искривления поля проекционной оптической системы посредством изменения положения в направлении оптической оси проекционной оптической системы; второй оптический узел, выполненный с возможностью изменять увеличение проекции или положение фокуса...