PatentDB.ru — поиск по патентным документам

КАСПАР Мартин (CH)

Изобретатель КАСПАР Мартин (CH) является автором следующих патентов:

Устройство уф-облучения с дополнительным монохроматическим источником излучения

Устройство уф-облучения с дополнительным монохроматическим источником излучения

Данное изобретение относится к способу УФ-сшивания лаковых слоев. Кроме того, изобретение относится к устройству облучения для выполнения способа. Поверхность компонента по меньшей мере частично имеет покрытие, которое содержит PVD-покрытие, расположенное между первым лаковым слоем и вторым лаковым слоем, первый лаковый слой образует слой базового покрытия на поверхности, а второй лаковый слой обр...

2663758