КАСПАР Мартин (CH)
Изобретатель КАСПАР Мартин (CH) является автором следующих патентов:
Устройство уф-облучения с дополнительным монохроматическим источником излучения
Данное изобретение относится к способу УФ-сшивания лаковых слоев. Кроме того, изобретение относится к устройству облучения для выполнения способа. Поверхность компонента по меньшей мере частично имеет покрытие, которое содержит PVD-покрытие, расположенное между первым лаковым слоем и вторым лаковым слоем, первый лаковый слой образует слой базового покрытия на поверхности, а второй лаковый слой обр...
2663758