ФОН РИВЕЛЬ Лариса (DE)

Изобретение относится к устройству для термической обработки подложки, причем устройство имеет нагревательный узел и носитель, снабженный опорной поверхностью для поддержания подложки. Технический результат - создание устройства, носителя и элемента для поддержки подложки для носителя, которые делают возможной простую термическую обработку подложек с высокой производительностью. Достигается тем, ч...