БАБОННО Даниель (FR)

Литографическое устройство содержит опору для образца, маску, источник излучения в экстремальном ультрафиолетовом диапазоне спектра, оптическое средство для собирания и передачи излучения к маске и оптическое средство для уменьшения этого изображения и проекции уменьшенного изображения на образец. Устройство содержит многослойные зеркала, каждое из которых содержит подложку и комплект чередующихся...