Грибов Б.Г. (RU)

Использование: в производстве полупроводниковой микроэлектроники, в частности в технологии изготовления интегральных схем, удаления позитивного фоторезиста с поверхности подложки, электрохимического травления кремния, обезжиривания поверхности, а также в других областях промышленности, где необходима высокая степень чистоты поверхности. Техническим результатом изобретения является создание ресурсо...