PatentDB.ru — поиск по патентным документам

Селиванова И.Н.

Изобретатель Селиванова И.Н. является автором следующих патентов:

Способ очистки поверхности металлов

Способ очистки поверхности металлов

 Изобретение относится к технологии жидкостной химической очистки поверхности металлических изделий и может быть использовано в различных отраслях промышленности, в которых предъявляются высокие требования к чистоте поверхности. Очищаемые поверхности металлов обрабатывают раствором серной кислоты с концентрацией 14 - 18 М, подвергнутой электрохимической активации, с последующей их промывко...

2109087

Способ непрерывной жидкостной химической очистки поверхности, преимущественно полупроводниковых пластин

Способ непрерывной жидкостной химической очистки поверхности, преимущественно полупроводниковых пластин

 Изобретение относится к технологии жидкостной химической очистки поверхности изделий, преимущественно полупроводниковых пластин, и может быть использовано в электронной промышленности. Технический результат, получаемый от реализации способа заключается в повышении эффективности очистки полупроводниковых пластин, а также обеспечении полной рекуперации травильного раствора. Сущность изобрет...

2118013

Способ непрерывного жидкостного химического снятия слоев полимеров с поверхности изделий, преимущественно полупроводниковых пластин

Способ непрерывного жидкостного химического снятия слоев полимеров с поверхности изделий, преимущественно полупроводниковых пластин

 Использование: электронная промышленность. Сущность изобретения: способ жидкостного снятия слоев полимеров с поверхности изделий включает электрохимическую обработку водного раствора серной кислоты, воздействие полученного активированного раствора на поверхность пластин, повторную электрохимическую обработку и очистку раствора. Используют серную кислоту с концентрацией от 15 до 18 М, обра...

2139593

Установка для химической очистки поверхности изделий, преимущественно полупроводниковых пластин

Установка для химической очистки поверхности изделий, преимущественно полупроводниковых пластин

 Использование: электронная промышленность. Сущность изобретения: установка для химической очистки поверхности изделий, преимущественно полупроводниковых пластин, включающая систему для жидкостной химической очистки пластин, электрохимическую ячейку для активациии и очистки раствора в виде анодной и катодной камер, разделенных между собой полупроницаемой мембраной, а также систему для обес...

2139594