ТАЕДЖУН Хан (US)
Изобретатель ТАЕДЖУН Хан (US) является автором следующих патентов:

Регулирование давления над полупроводниковой пластиной с целью локализации плазмы
Изобретение относится к технологическому оборудованию для изготовления полупроводниковых приборов. Камера плазменной обработки (200), обеспечивающая усовершенствование методики регулирования давления над полупроводниковой пластиной (206) представляет собой вакуумную камеру (212, 214, 216), соединенную с устройством для возбуждения и удержания плазмы. Частью этого устройства являются источник газа-...
2270492