Кольцов Ю.И.

  Изобретение касается аналитической химии, в частности определения количества алкилфенолформальдегидных щелочерастворимых смол в составе полимерной основы фоторезистов, что может быть использовано в микроэлектронике. Анализ ведут определением скорости растворения слоя смолы на подложке в водно-щелочном растворе проявителя и расчетом содержания каждой смолы по формулам C1= [(lgV-lgV2):(lgV...

 Изобретение относится к позитивным фоторезистам и может быть использовано в фотолитографических процессах при изготовлении интегральных схем в микроэлектронике, радиоэлектронике. Предложен позитивный фоторезист, содержащий, мас.%: крезолформальдегидную новолачную смолу 60 - 66,5; диэфир 1,2 - нафтохинодиазид-(2), 5 - сульфокислоты и 2,4 - диокисибензофенона 30 - 33; органическое соединени...