Метель А.С.

 Использование: для обработки изделий в вакуумной камере пучком большего сечения ионов или быстрых нейтральных молекул инертных и химически активных газов с целью очистки и повышения адгезии наносимых покрытий, распыления материалов, ионно-химического травления, полировки поверхности, а также с целью упрочнения и модификации поверхности имплантацией ускоренных частиц. Сущность изобретения:...

  Использование: в ионно-плазменной технологии, для нагрева массивных изделий перед их химико-термической обработкой. Сущность изобретения: способ нагрева электропроводящих изделий включает заполнение рабочей камеры водородной и/или гелиевой плазмой и обработку поверхности изделий ускоренными ионами из плазмы посредством подачи на изделия отрицательного потенциала. При этом рабочую камеру...

  Использование: в области ионно-плазменной технологии для химико-термической обработки проводящих изделий, нагрева и плавки металлов в вакууме. Способ обработки изделий включает заполнение рабочей камеры с изделиями плазмой и подачу на изделия положительного потенциала. При этом потенциал подают поочередно на отдельные изделия и/или группы изделий, а для различных видов обработки использу...

 Использование: в газоразрядных генераторах плазмы, в том числе в устройствах для ионно-плазменной обработки изделий. Сущность изобретения: катод плазменного эмиттера ионов выполнен в виде протяженного полого катода, открытого с одной стороны, с шириной полости вблизи его периферийных частей, превышающей ширину полости в его центральной части. 3 ил. Изобретение относится к газоразрядным ге...

 Использование: в способе получения пучков ускоренных частиц в технологической вакуумной камере, обеспечивающих очистку и нагрев изделий, повышение адгезии наносимых распылением покрытий, упрочение и модификацию поверхности изделий, а также полировку поверхности и распыление материалов. Сущность изобретения: способ предусматривает ионизацию газа в газоразрядной камере источников ионов и по...

 Использование: в вакуумной технике, в газоразрядных генераторах плазмы для ионно-плазменной обработки изделий. Сущность изобретения: катод плазменного эмиттера содержит боковые и торцовую стенки, образующие полость с эмисионным отверстием, ограниченным боковыми стенками. Поперечный размер полости от торцовой стенки до противолежащей открытой поверхности эмиссионного отверстия в ее централ...

 Сущностью изобретения является установка для вакуумно-плазменной обработки изделий, в которой загруженная кассета с изделиями устанавливается в технологической зоне загрузки-выгрузки, и над ней располагается шлюзовая камера. С помощью механизма подъема кассета загружается в эту камеру, затем последняя размещается над устройством предварительного нагрева в виде печи. Прогретые изделия подн...

 Использование: вакуумно-плазменная техника. Сущность изобретения: источник быстрых нейтральных молекул содержит газоразрядную камеру с источником питания разряда, камеру перезарядки, ускоряющую сетку, размещенную между газоразрядной камерой и камерой перезарядки, а также источник ускоряющего напряжения и средство подачи рабочего газа. В полости газоразрядной камеры размещены электроды газ...

 Изобретение относится к вакуумно-плазменной технике, к источникам пучков большого поперечного сечения ионов и/или быстрых нейтральных молекул инертных и химически активных газов, а именно к плазменным эмиттерам ионов с большой эмиссионной поверхностью. Плазменный эмиттер ионов содержит эмиссионную сетку открытый в направлении сетки полый катод, анод и источник питания разряда. Отрицательн...