Хоботнев Олег Юрьевич (RU)

Изобретение относится к полупроводниковому производству, в частности к процессам фотолитографии при нанесении фоторезиста на пластины, а также может использоваться при получении других полимерных покрытий центрифугированием. Техническим результатом изобретения является устранение разрывов пленки при формировании покрытия в случае отклонения коэффициента поверхностного натяжения жидкости от исходно...