Петров Леонид Михайлович (RU)

Изобретение относится к вакуумной ионно-плазменной обработке поверхностей, в частности к установке для вакуумного ионно-плазменного нанесения покрытий, и может быть использовано в приборостроении и машиностроении для нанесения покрытий на изделия из металлов и сплавов, диэлектриков и других материалов и для модифицирования поверхности конструкционных материалов и инструмента. Установка содержит ва...

Изобретение относится к технике покрытий деталей машин и материалов, более конкретно к вакуумной ионно-плазменной обработке поверхностей, и может быть использовано в оборудовании для нанесения покрытий на изделиях из металла и сплавов, диэлектриков и других материалов. Установка для вакуумной ионно-плазменной обработки поверхностей включает вакуумную камеру, источники плазмы, системы вакуумировани...

Изобретение относится к получению изделий из псевдо-α или (α+β) титановых сплавов, предназначенных для длительной эксплуатации в парах трения с полимерными или металлическими материалами и биологическими тканями. Изготавливают заготовку, затем ее подвергают термоводородной обработке путем насыщения водородом термодиффузионным методом до концентрации водорода 0,5-0,9% по мас...

Изобретение относится к вакуумно-дуговому источнику плазмы и может найти применение для нанесения различного рода металлических покрытий на поверхность изделий. Источник содержит испаряемый металлический катод (2), анод (1), в качестве которого используется корпус, устройство поджига разряда и токоподвод, соединяющий источник электропитания разряда с катодом (2) со стороны, противоположной его ра...

Группа изобретений относится к измерительной технике, в частности к средствам неразрушающего контроля энергетического состояния поверхности деталей и изделий, выполненных из электропроводящих материалов или полупроводников. Измерение осуществляют путем контакта измерительного электрода (3) с поверхностью исследуемого образца (2) и последующего размыкания электрического контакта. Электрод (3) посл...

Изобретение относится к вакуумно-дуговым устройствам для генерации плазмы и может быть использовано для нанесения различного рода металлических покрытий на поверхности изделий. Катодный узел включает катод (1), средства охлаждения катода и держатель (2) катода (1), анод, блок электропитания дугового разряда и магнитную систему управления движением катодных пятен по рабочей поверхности катода (МС...