Фомина Лариса Валерьевна (RU)
Изобретатель Фомина Лариса Валерьевна (RU) является автором следующих патентов:
![Способ халькогенной обработки поверхности арсенида галлия n-типа Способ халькогенной обработки поверхности арсенида галлия n-типа](/img/empty.gif)
Способ халькогенной обработки поверхности арсенида галлия n-типа
Изобретение относится к электрохимии полупроводников и технологии полупроводниковых приборов. Сущность изобретения: поверхность полупроводникового электрода арсенида галлия n-типа перед электрохимическим нанесением металла подвергают дополнительной к стандартной химической обработке в растворах халькоген содержащих соединений. Образец последовательно выдерживают сначала в течение 3 минут в 0.05 М...
2291517![Способ селенатно-тиосульфатной обработки поверхности арсенида галлия n-типа Способ селенатно-тиосульфатной обработки поверхности арсенида галлия n-типа](https://img.patentdb.ru/i/200x200/ea588f45e07c4ab1b318985fba933552.jpg)
Способ селенатно-тиосульфатной обработки поверхности арсенида галлия n-типа
Изобретение относится к электрохимии полупроводников и технологии полупроводниковых приборов. Сущность изобретения заключается в том, что поверхность полупроводникового электрода - арсенида галлия n-типа - перед электрохимическим нанесением металла подвергают дополнительной к стандартной химической обработке в растворах халькогенсодержащих соединений с последующей промывкой поверхности в прокипя...
2572793