Аристов Виталий Васильевич (RU)

Изобретение относится к области твердотельной микро- и наноэлектроники. Техническим результатом изобретения является создание простым и технологичным путем широкого спектра твердотельных суперконденсаторов как основы гибридных устройств без внешних источников питания, функционирующих за счет накопленного в суперконденсаторе электрического заряда. Сущность изобретения: в суперконденсаторе, состояще...

Использование: для изготовления рентгеновских преломляющих линз. Сущность: заключается в том, что осуществляют изготовление линзы из материала, способного к фотополимеризации, формируя одну или нескольких линз с требуемым фокусным расстоянием путем внесения необходимого количества материала линзы в жидком состоянии в оправку цилиндрической формы, материал которой обеспечивает для данной жидкости о...

Использование: для изготовления рентгеновских преломляющих линз. Сущность заключается в том, что изготавливают матрицу линзы из материала, способного к фотополимеризации, формированием одной или нескольких линз с требуемым фокусным расстоянием, учитывая число и геометрические характеристики этих линз, характеристики материала данных линз и материала оправки, а также динамический режим, на которо...

Изобретение относится к лазерным методам резки пластин и может быть использовано в микроэлектронной промышленности для резки алмазных, карбидкремниевых, кремниевых и других подложек с изготовленными на них приборами. Технический результат - прецизионная лазерная резка без «выброса» и переосаждения материала подложек на сформированные приборы, стенки и окна технологической камеры. Способ лазерной...

Изобретение относится в технологии производства пленок карбида кремния на кремнии, которые могут быть использованы в качестве подложек или функциональных слоев при изготовлении приборов полупроводниковой электроники, работающих в экстремальных условиях - повышенных уровнях радиации и температур. Техническим результатом изобретения является превращение технологического процесса в одну технологич...

Изобретение относится к СВЧ плазменным устройствам для проведения процессов осаждения и травления слоев - металлов, полупроводников, диэлектриков и может быть использовано в технологических процессах создания полупроводниковых приборов с высокой степенью интеграции, работающих в экстремальных условиях. Изобретение обеспечивает улучшение равномерности обработки и повышение скорости формирования с...

Изобретение относится к СВЧ плазменным установкам для проведения процессов травления и осаждения слоев - металлов, полупроводников, диэлектриков при пониженном давлении и может быть использовано в технологических процессах создания полупроводниковых приборов с высокой степенью интеграции. Изобретение обеспечивает улучшение равномерности обработки кремниевых пластин, упрощение настройки горения п...

Изобретение относится к устройствам СВЧ плазменной обработки материалов и может быть использовано при создании твердотельных приборов микро- и наноэлектроники, мощных дискретных твердотельных электронных приборов, в производстве подложек для электронных приборов, работающих в экстремальных условиях. Технический результат - повышение эффективности введения энергии в кремниевую пластину, а значит...