Сидоренко Нина Владимировна (RU)

Данное изобретение относится к полимерным защитным материалам и может быть использовано для создания антикоррозионных покрытий. Фотоотверждаемая композиция для покрытий включает полисульфидный олигомер (5-10 мас.ч.) и ненасыщенную полиэфирную смолу (100-105 мас.ч.) и фотоинициатор (3-6 мас.ч.). В качестве ненасыщенной полиэфирной смолы используют смолу марки ПН-9119, которая представляет собой рас...

Изобретение относится к разработке реакционно-способных фотополимеризующихся композиций на основе растворов полисульфона, используемых для получения покрытий различного назначения. Техническая задача - разработка композиции, позволяющей ускоренное получение покрытия с меньшим количеством технологических операций, повышение эластичности фотополимерных материалов на основе ПСФ, а также минимизация...

Изобретение относится к фотополимеризующейся композиции. Композиция включает полисульфон на основе 2,2-бис(4-оксифенил)пропана и 4,4'-дихлордифенилсульфона с молекулярной массой 40000-56000, растворитель, полимеризационноспособное соединение и фотоинициатор. В качестве растворителя композиция содержит стирол, в качестве полимеризационноспособного соединения продукт взаимодействия дихлорангидрида...

Изобретение относится к разработке антикоррозионных покрытий на основе бутадиен-стирольного термопласта и может быть использовано при получении светоотверждаемых антикоррозионных покрытий для емкостного оборудования, металлических и железобетонных конструкций в промышленном и гражданском строительстве. Антикоррозионная композиция для покрытий включает бутадиен-стирольный термоэластопласт марки Д...

Изобретение относится к промышленности пластмасс, в частности к разработке реакционно-способных фотополимеризующихся композиций, и может быть использовано для получения неокрашенных оптически прозрачных материалов с пониженной горючестью и высокой адгезией к силикатным стеклам. Фотополимеризующаяся композиция включает термопластичный полимер, растворитель, диметакриловое соединение и фотоиници...

Изобретение относится к химии полимеров, в частности к составам на основе эпоксидных смол, применяемых для получения покрытий защитного назначения методом ускоренного их формирования. Фотополимеризующаяся композиция включает полисульфон на основе 2,2-бис(4-оксифенил)пропана и 4,4′-дихлордифенилсульфона, полимеризационноспособный растворитель, добавку полимеризационноспособного соединения и фотои...

Изобретение относится к химии полимеров, в частности к составам на основе эпоксидных смол, применяемым для получения покрытий защитного назначения методом ускоренного их формирования - фотоинициированной полимеризацией. Композиция включает стирольный блок-сополимер, олигомер, растворитель и фотоинициатор. При этом в качестве стирольного блок-сополимера используют стирольный блок-сополимер марки Ta...

Изобретение относится к промышленности полимеризационных пластмасс. Описана фотополимеризующаяся композиция для ускоренного формирования покрытий защитного назначения. Композиция включает полимер - каучук марки Hydrin С2000, реакционно-способный растворитель - диглицидиловый эфир гомоолигомера эпихлоргидрина Э-181, эпоксиднаую смолу марки УП-631 и фотоинициатор - гексафторфосфат дифенилйодония. Т...

Изобретение относится к фотополимеризующейся композиций, содержащей предварительно растворенный полимер, и может быть использовано для ускоренного формирования из них композиций с пониженной горючестью. Описана фотополимеризующаяся композиция для формирования негорючих покрытий, включающая компоненты при следующих соотношениях, мас.ч.: полиуретановый каучук марки СКУ-8ТБ 22,5-27,5, диглицидиловый...