ШУСТЕР Михаэль (DE)
Изобретатель ШУСТЕР Михаэль (DE) является автором следующих патентов:
Обработка поверхности полупроводников и используемая при этом смесь
Настоящее изобретение касается композиции для обработки поверхности и способа обработки поверхности субстрата, используя эту композицию. Сущность изобретения: очищающий раствор содержит воду, перекись водорода, щелочное соединение и 2,2-бис-(гидроксиэтил)-(иминотрис)-(гидроксиметил)метан в качестве хелатирующей добавки. Предпочтительно щелочное соединение выбрано из группы, состоящей из органическ...
2329298