PatentDB.ru — поиск по патентным документам

Гудымович Елена Никифоровна (RU)

Изобретатель Гудымович Елена Никифоровна (RU) является автором следующих патентов:

Фотоактивированная композиция для травления пленок диоксида кремния

Фотоактивированная композиция для травления пленок диоксида кремния

Изобретение относится к области производства интегральных микросхем и других электронных устройств, использующих планарную технологию их изготовления, основанную на фотолитографических процессах. Техническая задача - разработка фотоактивированной композиции для травления пленок диоксида кремния в процессах фотолитографии, использование которой позволяет упростить технологический процесс получения...

2330049

Способ получения металлического рисунка в поверхностном слое стекла

Способ получения металлического рисунка в поверхностном слое стекла

Изобретение относится к области производства интегральных схем, основанной на переносе изображения фотолитографическим способом с использованием фотошаблонов. Согласно способу на очищенную поверхность стекла наносят светочувствительный слой позитивного фоторезиста. В указанном слое с помощью фотолитографии формируют окна размерами 5-10 мкм. Поверхность просушивают и наносят второй слой металлсоде...

2456655

Фотоактивированная композиция для травления пленок нитрида кремния

Фотоактивированная композиция для травления пленок нитрида кремния

Изобретение относится к области производства интегральных микросхем и других электронных устройств, использующих планарную технологию их изготовления, основанную на фотолитографических процессах. Фотоактивированная композиция включает полимерную основу и фоточувствительный компонент. В качестве полимерной основы композиция содержит полиметилметакрилат, в качестве фоточувствительного компонента ф...

2507219

Композиция для фотоактивированного травления пленок диоксида кремния

Композиция для фотоактивированного травления пленок диоксида кремния

Изобретение может быть использовано при производстве интегральных микросхем и других электронных устройств, использующих планарную технологию их изготовления, основанную на фотолитографических процессах. Композиция для фотоактивированного травления пленок диоксида кремния включает полимерную основу - полиметилметакрилат, фоточувствительный компонент - фторид аммония в растворе трифторуксусной ки...

2513620

Композиция для сухого травления пленок диоксида кремния в фотолитографическом процессе

Композиция для сухого травления пленок диоксида кремния в фотолитографическом процессе

Изобретение относится к области микроэлектроники и применимо в фотолитографических процессах. Предложена композиция для химического травления пленок диоксида кремния в фотолитографическом процессе, включающая поливиниловый спирт в качестве полимерной основы и фторид аммония в качестве травящего компонента, а также дополнительно растворитель - воду при следующем соотношении компонентов, мас.%: по...

2524344