Гудымович Елена Никифоровна (RU)
Изобретатель Гудымович Елена Никифоровна (RU) является автором следующих патентов:
Фотоактивированная композиция для травления пленок диоксида кремния
Изобретение относится к области производства интегральных микросхем и других электронных устройств, использующих планарную технологию их изготовления, основанную на фотолитографических процессах. Техническая задача - разработка фотоактивированной композиции для травления пленок диоксида кремния в процессах фотолитографии, использование которой позволяет упростить технологический процесс получения...
2330049Способ получения металлического рисунка в поверхностном слое стекла
Изобретение относится к области производства интегральных схем, основанной на переносе изображения фотолитографическим способом с использованием фотошаблонов. Согласно способу на очищенную поверхность стекла наносят светочувствительный слой позитивного фоторезиста. В указанном слое с помощью фотолитографии формируют окна размерами 5-10 мкм. Поверхность просушивают и наносят второй слой металлсоде...
2456655Фотоактивированная композиция для травления пленок нитрида кремния
Изобретение относится к области производства интегральных микросхем и других электронных устройств, использующих планарную технологию их изготовления, основанную на фотолитографических процессах. Фотоактивированная композиция включает полимерную основу и фоточувствительный компонент. В качестве полимерной основы композиция содержит полиметилметакрилат, в качестве фоточувствительного компонента ф...
2507219Композиция для фотоактивированного травления пленок диоксида кремния
Изобретение может быть использовано при производстве интегральных микросхем и других электронных устройств, использующих планарную технологию их изготовления, основанную на фотолитографических процессах. Композиция для фотоактивированного травления пленок диоксида кремния включает полимерную основу - полиметилметакрилат, фоточувствительный компонент - фторид аммония в растворе трифторуксусной ки...
2513620Композиция для сухого травления пленок диоксида кремния в фотолитографическом процессе
Изобретение относится к области микроэлектроники и применимо в фотолитографических процессах. Предложена композиция для химического травления пленок диоксида кремния в фотолитографическом процессе, включающая поливиниловый спирт в качестве полимерной основы и фторид аммония в качестве травящего компонента, а также дополнительно растворитель - воду при следующем соотношении компонентов, мас.%: по...
2524344