PatentDB.ru — поиск по патентным документам

Афанасьев Михаил Мефодьевич (RU)

Изобретатель Афанасьев Михаил Мефодьевич (RU) является автором следующих патентов:

Состав для покрытий с биоцидными свойствами (варианты) и способ получения наноструктурной добавки с биоцидными свойствами

Состав для покрытий с биоцидными свойствами (варианты) и способ получения наноструктурной добавки с биоцидными свойствами

Изобретение относится к химической промышленности по производству лакокрасочных материалов, в частности к составам для покрытий, обладающих биоцидными свойствами при обработке различных поверхностей конструкционных изделий, изготовленных из металла, дерева, бетона и т.д. и используемых в различных областях техники, например в строительстве, медицине, судостроительстве и т.д. Технической задачей из...

2338765

Способ получения бумаги с биоцидными свойствами

Способ получения бумаги с биоцидными свойствами

Изобретение относится к технологическим процессам производства целлюлозосодержащих материалов, а именно бумаги, обладающей биоцидными свойствами и предназначенной для широкого применения, в том числе, печатной бумаги, ценных бумаг и бумаги санитарно-гигиенического назначения. Осуществляют подготовку бумажной массы. Перед отливом бумажного полотна в бумажную массу вводят биоцид. В качестве биоцид...

2361029

Способ получения биоцида

Способ получения биоцида

Изобретение относится к способу получения биоцида, который заключается в активации бентонита Na-формы ионами натрия путем его обработки водным раствором хлористого натрия с последующим удалением анионов хлора при промывке и фильтровании полученного полуфабриката. Затем полученный полуфабрикат интеркалируют ионами металлов бактерицидного действия обработкой в водных растворах неорганических солей:...

2429857

Негативный фоторезист для "взрывной" фотолитографии

Негативный фоторезист для "взрывной" фотолитографии

Изобретение относится к негативным фоторезистам для процессов формирования топологических элементов микроэлектронных устройств с использованием «взрывной» фотолитографии. Предложена композиция негативного фоторезиста для «взрывной» фотолитографии, содержащая (мас.%) фенолоформальдегидную смолу (25,0-40,0), гексаметоксиметилмеламин (5,0-8,0), α-(4-тозилоксимино)-4-метоксибензилцианид (1,0-2,0), ор...

2648048