Зотов Андрей Вадимович (RU)
Изобретатель Зотов Андрей Вадимович (RU) является автором следующих патентов:

Способ создания проводящих нанопроволок на поверхности полупроводниковых подложек
Изобретение относится к методам создания металлических нанопроволок на поверхности полупроводниковых подложек и может быть использовано при создании твердотельных электронных приборов. Изобретение обеспечивает создание нанопроволок, обладающих высокой проводимостью, с возможностью управления местоположением формирования этих нанопроволок. Сущность изобретения: в способе создания проводящих наноп...
2359356
Способ формирования эпитаксиальных пленок кобальта на поверхности полупроводниковых подложек
Изобретение относится к области нанотехнологий, в частности к методам создания ультратонких магнитных эпитаксиальных пленок на полупроводниковых подложках, и может быть использовано при создании твердотельных электронных приборов. Сущность изобретения: способ формирования эпитаксиальных пленок кобальта на поверхности полупроводниковых подложек включает нанесение буферного подслоя меди на атомарно...
2465670
Способ формирования наноразмерных структур на поверхности полупроводников для использования в микроэлектронике
Изобретение относится к полупроводниковой микро- и наноэлектронике и может быть использовано при создании твердотельных электронных приборов. Сущность изобретения: способ формирования наноразмерных структур на поверхности полупроводников для использования в микроэлектронике включает формирование буферного слоя золота моноатомной толщины с образованием упорядоченного двумерного подслоя Si(111)-α√3...
2475884