PatentDB.ru — поиск по патентным документам

Стаценко Владимир Николаевич (RU)

Изобретатель Стаценко Владимир Николаевич (RU) является автором следующих патентов:

Кремниевый солнечный элемент с эпитаксиальным эмиттером

Кремниевый солнечный элемент с эпитаксиальным эмиттером

Изобретение относится к области солнечной энергетики и может быть использовано при изготовлении солнечных элементов. Сущность изобретения состоит в том, что в данном солнечном элементе, сформированном на высоколегированной подложке, эмиттер является основной поглощающей и генерирующей носители областью, причем эпитаксиальный эмиттер состоит из двух областей, каждая из которых имеет переменный по...

2360324

Способ формирования полупроводниковых структур

Способ формирования полупроводниковых структур

Изобретение относится к области производства полупроводниковых структур кремния и германия и может быть использовано при изготовлении структур для интегральных микросхем, в том числе требующих диэлектрической изоляции отдельных компонентов, дискретных приборов и солнечных элементов. Сущность изобретения состоит в том, что в способе формирования полупроводниковых структур эпитаксиальный слой на ис...

2393585

Способ измерения концентрации воды в нефтепродукте

Способ измерения концентрации воды в нефтепродукте

Изобретение относится к средствам измерения обводненности жидких нефтепродуктов и может быть использовано для определения доли воды в нефтепродуктах при их переработке и/или сжигании и/или приготовлении водно-топливных эмульсий (ВТЭ). Техническим результатом является возможность высокоточного оперативного определения обводненности нефтепродукта за счет фиксирования параметров, однозначно определя...

2456584

Способ изготовления эпитаксиального слоя кремния на диэлектрической подложке

Способ изготовления эпитаксиального слоя кремния на диэлектрической подложке

Изобретение относится к области формирования эпитаксиальных слоев кремния на изоляторе. Способ предназначен для изготовления эпитаксиальных слоев монокристаллического кремния n- и p-типа проводимости на диэлектрических подложках из материала с параметрами кристаллической решетки, близкими к параметрам кремния с помощью химической газофазной эпитаксии. В качестве материала подложки могут использова...

2618279

Способ изготовления гетероэпитаксиального слоя кремния на диэлектрике

Способ изготовления гетероэпитаксиального слоя кремния на диэлектрике

Изобретение относится к полупроводниковой технике, а именно к области изготовления гетероэпитаксиальных слоев монокристаллического кремния различного типа проводимости и высокоомных слоев в производстве СВЧ-приборов, фото- и тензочувствительных элементов, различных интегральных схем с повышенной стойкостью к внешним дестабилизирующим факторам. Способ изготовления гетероэпитаксиального слоя кремния...

2646070