PatentDB.ru — поиск по патентным документам

Набиев Ринат Мухамедович (RU)

Изобретатель Набиев Ринат Мухамедович (RU) является автором следующих патентов:

Усилитель-преобразователь

Усилитель-преобразователь

Изобретение относится к вакуумной эмиссионной технике и может быть использовано при конструировании изделий и устройств вакуумной электроники, СВЧ и микроволновой электроники, систем визуализации информации (экраны плоских дисплеев), осветительных систем. Конструкция усилителя-преобразователя в составе: автоэмиссионного катода на основе углеродных наноструктурированных материалов, например углер...

2364981

Усилитель-преобразователь

Усилитель-преобразователь

Изобретение относится к вакуумной эмиссионной электронике и может быть использовано при конструировании изделий и устройств вакуумной электроники, приборов ночного видения, СВЧ и микроволновой электроники. Усилитель-преобразователь состоит из эмиттера на основе углеродных наноструктурированных материалов, например углеродных нанотрубок, динодов на основе алмаза либо микроструктурированного алмаза...

2399984

Способ формирования углеродных наноструктур

Способ формирования углеродных наноструктур

Изобретение относится к способам формирования массивов из углеродных наноструктур (УНС) для автоэмиссионных применений. Технический результат - разработка эффективного способа, позволяющего формировать массивы УНС непосредственно из углеродосодержащих слоев и подложек. Способ формирования массивов из УНС заключается в нанесении на произвольную подложку либо приборную структуру многослойного покры...

2417943

Фотокатод

Фотокатод

Изобретение относится к области электронной техники. В фотокатоде, выполненном из высокочистого полупроводника, область, регистрирующая оптическое излучение, выполнена в виде полупроводниковой мембраны с омическим контактом к несущей ее подложке и расположенной над отверстием в ней, на лицевой поверхности полупроводниковой мембраны расположен диэлектрический слой нанометровой толщины и приемн...

2542334

Формирование маски для травления алмазных пленок

Формирование маски для травления алмазных пленок

Изобретение относится к технологии изготовления интегральных схем. Сущность изобретения заключается в том, что маска из диэлектрика или металла изготавливается до роста алмазной пленки на подложке с ровной поверхностью, обеспечивающей субмикронные размеры маски, с последующим формированием на маске алмазной пленки и вскрытием окна со стороны подложки, что обеспечивает доступ со стороны подложки...

2557360


Фотокатод

Фотокатод

Использование конструкции согласно изобретению - это фотокатодные узлы вакуумных высокочувствительных, термо- и радиационно-стойких приемников излучений и приемников изображений для спектрального диапазона 0,19-1,0 мкм. Предложен фотокатод из высокочистого полупроводника, при этом регистрирующий оптическое излучение слой полупроводника расположен на прозрачной для оптического излучения подложке,...

2569917