ВАКАБАЯСИ Хисамото (JP)

Изобретение относится к области оксидирования стального материала, Для получения после охлаждения стального материала требуемой толщины оксидной пленки допускают образование оксидной пленки на поверхности стального материала dH2O+dO2≤15 нм, где dH2O - толщина оксидной пленки, образующейся с участием водяного пара в качестве окисляющей субстанции (нм): dH2O={5,50·10-3(Ti2-To2)-6,51(Ti-To)}/CR, гд...

Изобретение относится к черной металлургии, а именно к очистке валков прокатных станов. Устройство для очистки рабочего валка, используемого в прокатном стане, содержит кавитационное сопло, которое используется для очистки рабочего валка от цинка, прилипшего к его поверхности, с сохранением шероховатости поверхности рабочего валка. Расстояние X между распыляющим концом кавитационного сопла и пов...