Сергеев Сергей Алексеевич (RU)
Изобретатель Сергеев Сергей Алексеевич (RU) является автором следующих патентов:

Устройство для двухсторонней индивидуальной обработки подложек квадратной или прямоугольной формы
Изобретение относится к производству изделий электронной техники и может быть использовано для двухсторонней обработки стеклянных подложек квадратной или прямоугольной формы, используемых, например, в производстве при изготовлении фотошаблонов, а также жидкокристаллических экранов (ЖКЭ). Устройство содержит разгрузочную и приемную кассеты для подложек, установленные соответственно на механизмах...
2367526
Способ и устройство отмывки и сушки подложек
Изобретение относится к технике индивидуальной обработки подложек и может быть использовано при производстве изделий электронной техники, в частности при отмывке и сушке стеклянных подложек для жидкокристаллических экранов, полупроводниковых пластин и фотошаблонов. Сущность изобретения: в способе отмывки и сушки подложек подложки ступенчато опускают в ванну отмывки деионизованной водой и сканирую...
2386187
Способ удаления фоторезистивных пленок с поверхности оптических стекол
Изобретение относится к технологии изготовления изделий оптической техники, конкретно к способу удаления фоторезистивных пленок с поверхности оптических стекол, служащих в качестве основной маски при формировании микроэлементов на их поверхности. Технический результат изобретения заключается в обеспечении высокой скорости удаления фоторезистивной пленки с поверхности габаритных по площади и толщин...
2643172