PatentDB.ru — поиск по патентным документам

Мармалюк Александр Анатольевич (RU)

Изобретатель Мармалюк Александр Анатольевич (RU) является автором следующих патентов:

Туннельно-связанная полупроводниковая гетероструктура

Туннельно-связанная полупроводниковая гетероструктура

Изобретение относится к полупроводниковой технике, квантовой оптоэлектронике и может быть использовано для разработки мощных когерентных импульсных источников излучения на основе эпитаксиально-интегрированных гетероструктур. Сущность изобретения: туннельно-связанная полупроводниковая гетероструктура включает подложку (1) GaAs n-типа проводимости, на которую последовательно нанесены буферный слой...

2396655

Активная зона генератора на полупроводниковой структуре

Активная зона генератора на полупроводниковой структуре

Активная зона представляет собой сверхрешетку, выполненную в виде гетероструктуры из соединений типа АIIIВV и обеспечивающую периодическую вариацию энергии дна зоны проводимости структуры. Сверхрешетка имеет период d, состоящий из одной потенциальной квантовой ямы и узкого потенциального барьера, ширина которого в 3-20 раз меньше ширины потенциальной квантовой ямы. Рабочим переходом в активной зо...

2415502

Лазер-тиристор

Лазер-тиристор

Использование: для получения управляемой последовательности мощных лазерных импульсов. Сущность изобретения заключается в том, что лазер-тиристор содержит катодную область (1), включающую подложку n-типа проводимости (2), широкозонный слой n-типа проводимости (3), анодную область (4), включающую контактный слой p-типа проводимости (5), широкозонный слой p-типа проводимости (6), одновременно явля...

2557359

Способ изготовления слоев р-типа проводимости на кристаллах ingaas

Способ изготовления слоев р-типа проводимости на кристаллах ingaas

Изобретение относится к технологии изготовления полупроводниковых приборов, чувствительных к инфракрасному излучению, и может быть использовано при изготовлении фотодиодов на кристаллах InGaAs n-типа проводимости, фототранзисторов, фоторезисторов на основе кристаллов p-типа проводимости. В способе изготовления слоев p-типа проводимости на кристаллах InGaAs, включающем имплантацию ионов Be+ и пос...

2558376

Активный элемент полупроводникового лазера с поперечной накачкой электронным пучком

Активный элемент полупроводникового лазера с поперечной накачкой электронным пучком

Активный элемент полупроводникового лазера с поперечной накачкой электронным пучком содержит прямоугольную пластину из полупроводникового материала, имеющую первую поверхность, облучаемую электронами, вторую поверхность параллельную первой, которой она закреплена на подложке, и две боковые поверхности, образующие оптический резонатор. Пластина представляет собой многослойную полупроводниковую гете...

2606925