Голубский Александр Алексеевич (RU)
Изобретатель Голубский Александр Алексеевич (RU) является автором следующих патентов:
Способ допроявления фоторезиста, нанесенного на пьезоэлектрическую подложку
Изобретение относится к способам допроявления фоторезистов и может быть использовано в области микроэлектроники интегральных пьезоэлектрических устройств на поверхностных акустических волнах (фильтры, линии задержки, резонаторы). Согласно способу подложку с фоторезистом размещают в плазмохимическом реакторе внутри перфорированного металлического цилиндра и проводят обработку в плазме смеси кислор...
2401321Способ удаления органических остатков с пьезоэлектрических подложек
Изобретение относится к микроэлектронике и может быть использовано в технологии изготовления интегральных пьезоэлектрических устройств - фильтров, резонаторов, линий задержки на поверхностных акустических волнах. Способ включает операции вакуумирования и обработки подложек в кислородсодержащей плазме. Подложки обрабатывают в плазме смеси кислорода и инертного газа, содержащей 5-12 об.% кислорода...
2406785Способ допроявления фоторезиста на пьезоэлектрических подложках
Изобретение относится к области микроэлектроники, в частности к микроэлектронике интегральных пьезоэлектрических устройств на поверхностных акустических волнах (фильтры, линии задержки и резонаторы), которые находят широкое применение в авионике и бортовых системах. Способ включает размещение подложек с нанесенным слоем фоторезиста в плазмохимическом реакторе и обработку слоя фоторезиста в кислор...
2416676Способ настройки резонатора на поверхностных акустических волнах
Изобретение относится к микроэлектронике и может быть использовано в технологии изготовления интегральных пьезоэлектрических устройств (фильтры, резонаторы, линии задержки на поверхностных акустических волнах (ПАВ)), которые находят широкое применение в авионике и бортовых системах, телекоммуникации. Технический результат заключается в увеличении выхода годных за счет уменьшения разброса частот в...
2452079Способ изготовления фотошаблона для контактной фотолитографии с субмикронными и нанометровыми проектными нормами
Изобретение относится к области микроэлектроники, а точнее к способам изготовления фотошаблонов для контактной фотолитографии с субмикронными и нанометровыми проектными нормами, и может быть использовано при изготовлении фотошаблонов для технологии изготовления акустоэлектронных устройств на поверхностных и объемных акустических волнах. Технический результат - к N раз уменьшение неровности края п...
2470336Способ изготовления резонаторов на поверхностных акустических волнах
Областью применения изобретения является микроэлектроника, а более конкретно микроэлектроника интегральных пьезоэлектрических устройств на поверхностных акустических волнах (ПАВ)-резонаторов, которые находят широкое применение в авионике и бортовых системах, телекоммуникации и т.д. Способ изготовления резонаторов на поверхностных акустических волнах включает травление кварцевой подложки, нанесен...
2494499