Одиноков Вадим Васильевич (RU)

Способ включает загрузку в тигель исходного кремния, его нагрев в инертной атмосфере выше температуры плавления, формирование капель расплава кремния путем его вытекания через калибровочное отверстие в дне тигля, охлаждение капель расплава до затвердевания с образованием гранул. Причем исходный кремний загружают в тигель на слой особо чистой кварцевой крупки толщиной не менее 2 см. Далее нагрев и...

Изобретение относится к плазменному оборудованию для многослойного нанесения пленочных покрытий при изготовлении приборов электронной техники. Устройство содержит технологическую вакуумную камеру (1) со средствами откачки и систему напуска и дозирования технологического газа, два или больше размещенных по периферии камеры дуговых источника (2) наносимого материала с источниками питания, столик (...

Изобретение относится к устройствам технологического оборудования и может быть использовано в технологии производства электронных компонент. Плазменный реактор с магнитной системой отличается тем, что электроды емкостного возбуждения выполнены в виде двух полых цилиндров, расположенных внутри камеры коаксиально, антенна индукционного возбуждения размещена радиально симметрично по отношению к пол...

Изобретение относится к устройствам для нанесения покрытий в вакууме. Устройство содержит плоскую мишень, установленную на основании, первую магнитную систему, расположенную внутри корпуса с первым каналом водяного охлаждения, источник питания электрического разряда и источник ионов газа. Основание установлено на корпусе. Источник ионов газа содержит внутренний полюсный наконечник с первой стенкой...

Изобретение относится к плазменно- дуговому устройству для формирования покрытий и может быть эффективно использовано при формировании защитных и биосовместимых слоев дентальных и ортопедических имплантатов, при изготовлении технологических слоев электролитических ячеек тонкопленочных интегральных аккумуляторов и в химических реакторах, которые работают в агрессивных средах и в условиях высоких те...

Суть настоящего изобретения состоит в процессе формирования трехмерных структур топологических элементов функциональных слоев на поверхности подложек. Способ основан на применении перспективной «аддитивной технологии», то есть топологические элементы функционального слоя создаются на локальных участках подложки путем прямого осаждения на них материала. В процессе формирования элементов не использу...

Изобретение относится к устройству для формирования многокомпонентных и многослойных покрытий и может быть использовано в автомобилестроении, в медицине при создании защитных и биосовместимых слоев дентальных и ортопедических имплантатов, для изготовления тонкопленочных интегральных аккумуляторов и в химических реакторах. Вакуумная камера (1) включает плазменно-дуговой источник (2) с магнитно...