PatentDB.ru — поиск по патентным документам

Тетерин Петр Евгеньевич (RU)

Изобретатель Тетерин Петр Евгеньевич (RU) является автором следующих патентов:

Способ получения тонких пленок на основе eus

Способ получения тонких пленок на основе eus

Изобретение относится к области полупроводниковой нанотехнологии, в частности к области получения тонкопленочных слоев магнитных полупроводников, и может быть использовано при получении интегральных схем. Способ включает формирование на подложке тонкопленочного слоя EuSx путем осаждения в вакууме EuS и серы из разных мишеней и последующий вакуумный отжиг сформированной пленки при температуре, обе...

2428505

Способ изготовления тонких пленок на основе моносульфида самария

Способ изготовления тонких пленок на основе моносульфида самария

Изобретение относятся к получению тонкопленочных материалов, в частности тонких пленок на основе моносульфида самария, и может быть использовано для создания переключающих устройств. Способ изготовления тонких пленок стехиометрического моносульфида самария импульсным лазерным осаждением включает осаждение на подложке тонких пленок моносульфида самария в вакууме при комнатной температуре с использ...

2459012

Способ контроля состояния материалов

Способ контроля состояния материалов

Изобретение относится к области неразрушающего контроля и диагностики материалов и может быть использовано в тех областях науки и техники, где необходимо отслеживать состояние материалов без оказания тестового воздействия на них. Технический результат - обеспечение возможности контролировать внутреннее состояние материала, находящегося вне зоны электромагнитной волны, создаваемой излучающей анте...

2488809

Способ изготовления защитного диэлектрического слоя

Способ изготовления защитного диэлектрического слоя

Изобретение относится к способам получения тонкопленочных материалов, в частности тонких пленок на основе оксида европия(III), и может быть использовано для защиты функционального слоя EuO. Способ изготовления защитного диэлектрического слоя Eu2O3 для полупроводниковой пленки, полученной на подложке, включает доокисление поверхностного слоя выращенной в сверхвысоковакуумной камере полупроводнико...

2574554