ХОЛМС Брайан Уилльям (GB)

Защитное устройство формируется следующим способом. Обеспечивается непроявленный фоторезистивный слой на электрически проводящем слое. Формируется первый дифракционный шаблон на непроявленном фоторезистивном слое с помощью оптической интерферометрии. Формируется второй дифракционный шаблон в непроявленном фоторезистивном слое с помощью электронно-лучевой литографии. Проявляется фоторезистивный сл...