Китай Мойше Самуилович (RU)

Изобретение относится к способам создания резистивной маски на поверхности подложки. Техническим результатом изобретения является увеличение разрешения литографии с высокой производительностью, использующей технологию химического усиления. Сущность изобретения: в способе создания маски на поверхности резиста, включающем нанесение на поверхность подложки слоя полимерного резиста, содержащего генер...

Изобретение относится к электрооптическим полимерным материалам, изменяющим коэффициент преломления при приложении электрического поля. Электрооптический полимерный материал получают из полимеризационноспособной акриловой композиции, которая состоит из акрилового мономера, содержащего электронодонорную группировку, акрилового мономера, содержащего электроноакцепторную группировку, бифункционально...

Изобретение относится к литографии, точнее к способам создания резистивной маски на поверхности полупроводниковой подложки. Техническим результатом изобретения является повышение производительности литографии сверхвысокого разрешения, прежде всего ЭУФ-литографии. Сущность изобретения: в способе создания маски на поверхности резиста, включающем нанесение на поверхность подложки слоя полимерного ре...