PatentDB.ru — поиск по патентным документам

Торхов Николай Анатольевич (RU)

Изобретатель Торхов Николай Анатольевич (RU) является автором следующих патентов:

Диод ганна

Диод ганна

Изобретение относится к микроэлектронике. Диод Ганна включает активный слой с изменяющимся, вдоль электрического поля, уровнем легирования, при этом согласно изобретению толщина активного слоя диода Ганна изменяется в диапазоне (1.0-1.8) мк, уровень легирования носителей тока в активном слое равномерно изменяется от (1.1-1.4)* 1016 см-3, на первой границе активного слоя, до (1.8-2.4)*1016 см-3, н...

2456715

Электролит для электрохимического осаждения иридия на арсенид галлия и способ его приготовления

Электролит для электрохимического осаждения иридия на арсенид галлия и способ его приготовления

Изобретение относится к области гальванотехники и может быть использовано в полупроводниковой СВЧ-электронике для получения выпрямляющих иридиевых контактов к арсениду галлия. Кроме того, иридиевые покрытия пригодны для защиты электрических контактов, работающих в условиях эрозионного износа, для защиты металлов от коррозии, в том числе при повышенной температуре. Способ приготовления электролит...

2530963

Способ изготовления высокочастотного транзистора с нанометровыми затворами

Способ изготовления высокочастотного транзистора с нанометровыми затворами

Изобретение относится к электронной технике и предназначено для создания дискретных приборов и сверхвысокочастотных интегральных схем с использованием полевых транзисторов. Техническим результатом изобретения является получение затворов длиной менее 100 нм, а также уменьшение толщины металлической маски и исключение промежуточного слоя диэлектрика, расположенного между поверхностью активной обла...

2578517

Способ изготовления диода с вискером терагерцового диапазона

Способ изготовления диода с вискером терагерцового диапазона

Изобретение относится к полупроводниковой электронике. Способ изготовления диода с вискером "Меза-подложка" терагерцового диапазона включает нанесение на поверхность гетероэпитаксиальной структуры диэлектрической пленки, в которой по маске фоторезиста травлением до высоколегированного катодного слоя создается окно катодного контакта U-, или О-образной формы, формирование в нем металлизации низкоом...

2635853