PatentDB.ru — поиск по патентным документам

Сторчак Вячеслав Григорьевич (RU)

Изобретатель Сторчак Вячеслав Григорьевич (RU) является автором следующих патентов:

Способ изготовления тонких пленок на основе моносульфида самария

Способ изготовления тонких пленок на основе моносульфида самария

Изобретение относятся к получению тонкопленочных материалов, в частности тонких пленок на основе моносульфида самария, и может быть использовано для создания переключающих устройств. Способ изготовления тонких пленок стехиометрического моносульфида самария импульсным лазерным осаждением включает осаждение на подложке тонких пленок моносульфида самария в вакууме при комнатной температуре с использ...

2459012

Способ изготовления защитного диэлектрического слоя

Способ изготовления защитного диэлектрического слоя

Изобретение относится к способам получения тонкопленочных материалов, в частности тонких пленок на основе оксида европия(III), и может быть использовано для защиты функционального слоя EuO. Способ изготовления защитного диэлектрического слоя Eu2O3 для полупроводниковой пленки, полученной на подложке, включает доокисление поверхностного слоя выращенной в сверхвысоковакуумной камере полупроводнико...

2574554

Способ выращивания эпитаксиальной пленки дисилицида европия на кремнии

Способ выращивания эпитаксиальной пленки дисилицида европия на кремнии

Изобретение относится к способу получения эпитаксиальной пленки дисилицида европия на кремниевой подложке и может быть использовано для создания контактов истока/стока в технологии производства полевых МОП транзисторов с барьером Шоттки (SB-MOSFET), а также для создания устройств спинтроники в качестве контакта-инжектора/детектора спин-поляризованных носителей. Способ заключается в осаждении атома...

2615099

Способ выращивания эпитаксиальных пленок дисилицида стронция на кремнии

Способ выращивания эпитаксиальных пленок дисилицида стронция на кремнии

Изобретение относится к способам получения эпитаксиальных тонкопленочных материалов, а именно новой фазы дисилицида стронция, обладающего в контакте с кремнием низкой высотой барьера Шоттки, и может быть использовано для создания контактов истока/стока в технологии производства полевых транзисторов с барьером Шоттки. Способ выращивания эпитаксиальных пленок дисилицида стронция на кремниевой подлож...

2620197

Способ получения эпитаксиальной пленки многослойного силицена, интеркалированного европием

Способ получения эпитаксиальной пленки многослойного силицена, интеркалированного европием

Изобретение относится к способам получения эпитаксиальных тонкопленочных материалов, а именно EuSi2 кристаллической модификации hP3 (пространственная группа N164, ) со структурой интеркалированных европием слоев силицена, которые могут быть использованы для проведения экспериментов по исследованию силиценовой решетки. Способ основан на стабилизации требуемой фазы EuSi2 путем ее эпитаксиального рос...

2663041