Шмидт Н.М.

 Использование: в микроэлектронике, в частности в производстве полупроводниковых приборов на основе A3B5. Сущность изобретения: диффузант для легирования полупроводников A3B5 содержит в качестве пленкообразующей основы 2-5 об.-ный водный раствор поливинилового спирта и легирующую добавку в количестве 1-10 об. Это улучшает воспроизводимость процесса легирования и сохраняет кристаллическое с...