PatentDB.ru — поиск по патентным документам

Быстров В.И.

Изобретатель Быстров В.И. является автором следующих патентов:

Способ изготовления фотополимеризующейся композиции для защитных рельефов

Способ изготовления фотополимеризующейся композиции для защитных рельефов

 (19)SU(11)1259846(13)A1(51)  МПК 6    G03C1/72(12) ОПИСАНИЕ ИЗОБРЕТЕНИЯк авторскому свидетельствуСтатус: по данным на 17.01.2013 - прекратил действиеПошлина: (54) СПОСОБ ИЗГОТОВЛЕНИЯ ФОТОПОЛИМЕРИЗУЮЩЕЙСЯ КОМПОЗИЦИИ ДЛЯ ЗАЩИТНЫХ РЕЛЬЕФОВ Изобретение относится к способам изготовления фотополимеризующихся композиций для защитных рельефов, которые находят примене...

1259846

Способ изготовления защитных рельефов

Способ изготовления защитных рельефов

 Изобретение касается производства печатных плат, в частности изготовления для них защитных рельефов, и может быть использовано в радио- и электротехнической промышленности. Цель изобретения - повышение разрешающей способности получаемого защитного рельефа, достижение стабильной устойчивости к отслоению его от медной подложки и повышение выхода годных изделий при изготовлении печатных плат...

1340398

Сухой пленочный фоторезист водно-щелочного проявления

Сухой пленочный фоторезист водно-щелочного проявления

 Изобретение касается фоторезистов, в частности сухого пленочного фоторезиста (СФР) водно-щелочного проявления для получения защитных рельефов при изготовлении печатных плат, в радио- и электротехнической промышленности. Для повышения разрешающей способности и устойчивости к перепроявлению используют другой карбоксилсодержащий сополимер стирола (КС) в фотополимеризующемся слое (ФС) другого...

1342280

Способ получения фотополимеризующейся композиции

Способ получения фотополимеризующейся композиции

 Изобретение касается полиграфии и радиотехники, в частности способа получения фотополимеризующейся композиции, использующейся для получения рельефных изображений. Цель изобретения - снижение вязкости реакционной среды, повышение светочувствительности фотополимеризующейся композиции и повышение ее гибкости в фотоотвержденном состоянии. Получение композиции ведут реакцией 1-2-основных карбо...

1498261

Фотополимеризующаяся композиция

Фотополимеризующаяся композиция

 Изобретение относится к фотографии, в частности к фотополимеризующейся композиции, которая используется для получения защитных рельефных изображений при производстве печатных плат в радио- и электротехнической промышленности. С целью повышения способности к удалению фотоотвержденной композиции хлористым метиленом и увеличения выхода годной продукции композиции имеет следующее соотношение...

1584607


Фильтрующая диафрагма для хлорного электролизера

Фильтрующая диафрагма для хлорного электролизера

 1. Фильтрующая диафрагма для хлорного электролизера, включающая асбестовые волокна, волокна из неорганических неэлектропроводных веществ и полимер, отличающаяся тем, что, с целью повышения чистоты получаемых продуктов и снижения расхода электроэнергии, диафрагма выполнена из слоев, из которых слой, обращенный к катоду, содержит асбестовые волокна, волокна из неорганических неэлектропровод...

1835870

Способ получения три- или более функционального олигоэфир(мет)акрилата как мономера для фоточувствительных материалов

Способ получения три- или более функционального олигоэфир(мет)акрилата как мономера для фоточувствительных материалов

 Использование: способы получения полифункционального олигоэфир(мет)акрилата как мономера для фоточувствительных материалов. Сущность изобретения: продукт - полифункциональный олигоэфир(мет)акрилат, кислотное число меньше или равно 20 мг КОН/г. Массовая доля эпоксидных групп меньше или равна 1,5%. Реагент 1: полифункциональной олигоэфирэпоксида. Реагент 2: акриловая или метакриловая кислот...

2053219

Сухой пленочный фоторезист

Сухой пленочный фоторезист

 Использование: изготовление печатных плат фотохимическим способом. Сущность изобретения: сухой пленочный фоторезистор (СПФ), состоящий из полиэтилентерефталатной основы, окрашенного светочувствительного слоя, защищенного полиэтиленовой пленкой, содержит полимерное связующее, растворимое в метилхлороформе 54,56 - 58,56 мас.%, сшивающие мономеры - сложные эфиры многоатомных спиртов и акрило...

2054706

Способ получения прозрачной полиэтилентерефталатной прокладки для магнитофонных кассет

Способ получения прозрачной полиэтилентерефталатной прокладки для магнитофонных кассет

 Использование: в производстве технических приборов звукозаписи при изготовлении прозрачных прокладок для комплектации магнитофонных кассет. Сущность: Прозрачную ПЭТФ прокладку получают нанесением на ПЭТФ подложку покрытия, выполненного из композиции, включающей пленкообразующие - Na соль сополимера метилметакрилата и малеиновой кислоты /0,21 - 0,84%/, ПАВ - Na соль алкансульфокислоты /0,0...

2072309

Способ получения антистатической антифрикционной прокладки для магнитофонных кассет

Способ получения антистатической антифрикционной прокладки для магнитофонных кассет

 Использование: в производстве технических приборов звукозаписи, для изготовления прокладок для комплектации магнитофонных кассет. Сущность: способ получения антистатической антифрикционной прокладки для магнитофонных кассет заключается в нанесении на одну из сторон двухосноориентированной прозрачной полиэтилентерефталатной пленки композиции на основе полимерного связующего для антистатиче...

2075394