Шипова Л.М.

 Использование: изготовление печатных плат фотохимическим способом. Сущность изобретения: сухой пленочный фоторезистор (СПФ), состоящий из полиэтилентерефталатной основы, окрашенного светочувствительного слоя, защищенного полиэтиленовой пленкой, содержит полимерное связующее, растворимое в метилхлороформе 54,56 - 58,56 мас.%, сшивающие мономеры - сложные эфиры многоатомных спиртов и акрило...