PatentDB.ru — поиск по патентным документам

Третьяков Д.Н.

Изобретатель Третьяков Д.Н. является автором следующих патентов:

Способ эпитаксиального наращивания полупроводниковых твердых растворов

Способ эпитаксиального наращивания полупроводниковых твердых растворов

 Изобретение относится к технологии полупроводниковых материалов и может быть использовано при получении приборных структур для микро- и оптоэлектроники с применением жидкостной эпитаксии. Целью изобретения является получение непрерывного ряда твердых растворов (Si2)xGaAs1-x на кремниевой подложке. Приготовляют насыщенный раствор - расплав мышьяка в олове и наносят его тонким слоем на пове...

1559970

Способ получения гетероэпитаксиальных слоев арсенида галлия

Способ получения гетероэпитаксиальных слоев арсенида галлия

 Изобретение относится к полупроводниковой технологии и может быть использовано при получении приборных структур для микро- и оптоэлектроники методом жидкостной эпитаксии. Целью изобретения является получение слоев арсенида галлия на подложках кремния и повышение их качества за счет улучшения планарности. Эпитаксиальное наращивание ведут из сильно пересыщенного раствора-расплава, что дости...

1589918

Способ определения температуры и момента начала кристаллизации раствора-расплава

Способ определения температуры и момента начала кристаллизации раствора-расплава

 Изобретение относится к физико-химическому анализу, а именно к способам определения температуры и момента начала кристаллизации раствора-расплава. Целью изобретения является повышение точности определения момента начала кристаллизации раствора-расплава. Расплав элемента III группы охлаждают и одновременно перемещают по поверхности кристалла AIIIBV c постоянной скоростью Vx. Фиксируют расс...

1602183

Способ эпитаксиального наращивания слоев ga as на подложках si и устройство для его осуществления

Способ эпитаксиального наращивания слоев ga as на подложках si и устройство для его осуществления

 Изобретение может быть использовано при получении приборных гетероструктур для микро- и оптоэлектроники. Сущность: для проведения эпитаксиального наращивания слоев арсенида галлия на кремниевых подножках приготовляют ненасыщенный раствор-расплав арсенида галлия в олове. Полученный раствор-расплав приводят в контакт с подложкой, исходная температура которой по крайней мере не ниже температ...

1788871

Светоизлучающий диод

Светоизлучающий диод

 Использование: в оптоэлектронике. Сущность изобретения: светоизлучающий диод включает светоизлучающий кристалл, помещенный в корпус, выполненный из материала, прозрачного для излучения, с показателем преломления 1 < nm < nк. Часть поверхности корпуса, не выводящая излучение, за счет полного внутреннего отражения образована вращением кривой функции f(x) относительно оси симметрии. Св...

2055420