Буравцев А.Т.

 Изобретение касается нанесения покрытий в вакууме. Цель изобретения - повышение качества покрытий и снижение непроизводительных потерь испаряемого материала. Система подачи материала 4 состоит из тигля 5, соединенного с испарителями через теплоизолированную керамическую прокладку 6. Испаритель представляет собой решетку со стенками в виде прогреваемых ножевидных элементов 1. Последние пре...

 Изобретение может быть использовано для получения активных и пассивных слоев методом термического испарения материала в вакууме. Цель изобретения - улучшение качества покрытия и увеличение коэффициента использования материала покрытия. Устройство содержит подложкодержатель 1, испаритель 3, установленный напротив него, формирователь 4 потока пара, выполненный в виде коаксиально расположенн...

 Изобретение относится к вакуумной технике, в частности к устройствам для нанесения резиста в вакууме. Цель изобретения- исключение привносимой дефектности - достигается тем, что устройство снабжено дополнительной камерой 18 со средством возвратно-поступательного перемещения 20 тигля 5 и средствами ввода инертного газа 19 и вакуумной откачки 22, соединенной затвором 21 с реакционной камеро...

 Изобретение может быть использовано в технологии микроэлектроники, а именно в устройствах для напыления резиста в вакууме. Целью изобретения является сокращение расхода резиста. Испаритель содержит установленный коаксиально внутри тигля 2 дозатор 3 резиста и закрепленный на экране 9 между формирователем 10 потока пара и дозатором 3 соответственно дополнительный экран 11 с отверстиями 14,...

 Использование: технология микроэлектроники. Сущность изобретения: подложку (П) помещают в предварительную вакуумную камеру и создают в ней давление 1-10 Па. Затем П перемещают в вакуумную камеру и в едином замкнутом вакуумном технологическом цикле осуществляют напыление на П слоя алюминия, осаждение слоя плазмополимеризованного стирола (ППС) при расходе пара стирола 1,5-3 л/ч, нанесение с...

 Использование: в трубоарматуре для физико-термического оборудования. Сущность изобретения: в полости корпуса установлен на диафрагме с возможностью перекрытия седла запорный орган со стержнем. На одном конце стержня соосно с диафрагмой установлена электретная пластина, повторяющая форму диафрагмы. На другом конце стержня установлена вторая диафрагма с второй электретной пластиной. Между д...

 Использование: в устройствах для очистки газов от примесей и в полупроводниковых производствах для очистки технологических газов от водорода, паров хлоридов металлов, хлористого водорода и т.п. примесей. Сущность изобретения: скруббер, содержащий входной 2 и выпускной 3 патрубки, форсунку 5, нейтрализатор 4 и влагоотделитель 6, снабжен установленным между влагоотделителем 6 и выпускным па...

 Изобретение относится к устройствам для нанесения покрытий в вакууме. Жидкий реагент, в частности стирол, заливают в камеру 1 через входной патрубок 5, а вторую камеру 2 вакуумируют до 10-3 - 10-5 мм рт.ст. Из камеры 1 через трубопровод 4 и дозирующее устройство 3 реагент подают в камеру 2. Дозирующее устройство перекрывают и производят нагрев жидкого реагента до 160 - 180oС. Образующиеся...

 Использование: в микроэлектронике, устройствах для нанесения покрытий. Сущность изобретения: испаритель, содержащий тигель, нагреватель и формирователь потока пара, снабжен рыхлителем, установленным внутри плоского со щелевидной полостью тигля с возможностью возвратно-поступательного перемещения. Между формирователем потока пара и рыхлителем размещена соединенная с ними форсунка. Дополнит...