Савинский Н.Г.

 Использование: при нанесении полимерных покрытий для повышения скорости осаждения полимера в зоне послесвечения плазмы, например, в микроэлектронике для осаждения резистивных, пассивирующих диэлектрических покрытий, в других областях техники. Сущность изобретения: по крайней мере один из компонентов полимеробразующего газа дополнительно вводят в зону свечения плазмы для его активации. В к...

 Использование: в качестве компонента фоторезистов. Сущность изобретения: продукт-многоядерные бисазиды ф-лы 1: N3-C6H4-Z-C6H4-N3, где Z-SO2 или X-C6H4-Y-C6H4-X, X O, S, Y-O, S, SO2, CO. Реагент 1: соответствующий диамин. Реагент 2: раствор нитрита натрия. Реагент 3: раствор азида натрия. Условия реакции: соляно-кислая среда. 2 табл. Изобретение относится к новым соединениям общей формулы...

 Использование: в качестве компонента фоторезиста. Сущность изобретения: продукт-ароматические моно- или дисульфонилазиды ф-лы 1: R-C6H4-SO2N3, где r-3-COOH, 3-SO2N3, 4-C6H4-SO2N3, 4-CH2-C64-SO2N3. Реагент 1: соответствующий ароматический сульфохлорид. Реагент 2: водный раствор азида натрия. Условия реакции: катализатор межфазного переноса. 2 табл. Изобретение относится к новым соединениям...