Кудряшов В.А.

 Способ дезактивации оборудования ядерных паропроизводящих установок, включающий последовательную промывку окислительным раствором, содержащим борную кислоту, аммиак и пермаганат калия, и восстановительным раствором, содержащим гидразин, комплексообразователь и органическую кислоту, отличающийся тем, что, с целью повышения эффективности дезактивации оборудования, изготовленного из стали пе...

 Изобретение относится к теплоэнергетике и м.б. использовано для подогрева воды в тепловых сетях. Изобретение позволяет интенсифицировать теплообмен. В камере 1 подвижно установлен кавитатор в виде свободно вращающейся крыльчатки 3 с полыми ступицей и лопатками 5 клиновидного профиля. Крыльчатка 3 закреплена на полом стержне 6, а в выходных торцах лопаток 5 выполнена система сквозных канал...

 Изобретение относится к аппаратам для обработки суспензий, используемых в строительном производстве, и позволяет интенсифицировать процесс обработки суспензий. Аппарат содержит конфузор 1, диффузор 2 и цилиндрический проточный участок 3, в котором установлено сопло 4, соединенное с проводящим патрубком 5, снабженным приводом 6 и установленным с возможностью вращения вокруг своей оси. Част...

 Изобретение относится к кожевенному производству и позволяет улучшить качество кожи за счет повышения адгезии и устойчивости покрытия к мокрому трению при сохранении требуемой гидрофобности и мягкости кожи. Состав для жирования кожи содержит, мас. %: хлорпарафины (с содержанием хлора 25-42%)35-65 и эмульгатор 35-65. В качестве эмульгатора используют продукт сульфирования смеси окисленных...

  Изобретение относится к технологии микроэлектроники, а именно к формированию фоторезистивной маски для обратной фотолитографии. Цель изобретения расширение технологических возможностей. На подложку наносится слой позитивного фоторезиста. Проводится облучение фоторезиста электродами с энергией 1 5 кэВ, в результате чего фоточувствительность облученных участков снижается. Величина снижения...

 Изобретение относится к устройствам, в которых смешение происходит в поле кавитационных пузырьков, и может быть использовано в химической, нефтехимической, целлюлозно-бумажной и других отраслях промышленности. Целью изобретения является интенсификация кавитационной обработки. Кавитационный реактор содержит корпус с размещенными внутри него по оси цилиндрической камерой, с входным патрубко...

 1. Способ флотации несульфидных минералов, включающий кондиционирование рудной пульпы в щелочной среде с модификаторами и собирателем - смесью высших алкилсульфатов с дополнительным реагентом и выделение в пенный продукт несульфидных минералов, отличающийся тем, что, с целью улучшения технологических показателей обогащения, в качестве дополнительного реагента вводят полиалкилбензосульфона...

 Сверхпроводящая планарная структура, содержащая две сверхпроводящие пленки, разделенные субмикронным зазором и расположенные на проводящей подложке, отличающаяся тем, что, с целью увеличения критической плотности тока при большой ширине зазора, подложка выполнена или из массивных кристаллов или из кристаллической пленки сплава висмута и сурьмы при следующем соотношении компонентов, ат.%:...

 Сущность изобретения: концентрат содержит 40 50%-ный водный раствор смеси углекислого калия и гидрата окиси калия в их массовом соотношении 1:(1 1,5)4 10% полиоксиэтиленгликолевые эфиры первичных жирных спиртов фракции C10-C20 с 8 12 моль окиси этилена 1 5% продукт сульфирования смеси окисленных метиловых эфиров синтетических жирных кислот фракции C21-C25 животного жира и/или продукт суль...

 Использование: при формировании структур методом обратной литографии. Сущность изобретения: наносят на подложку слой позитивного фоторезиста, облучают его пучком электронов, экспонируют рисунок ультрафиолетовым излучением, проявляют, напыляют дополнительный слой материала и удаляют резист. Новым в способе является то, что облучение пучком электроном проводят после экспонирования рисунка у...

 Изобретение относится к области микроэлектроники и может использован при формировании структур методом обратной литографии. Сущность изобретения: на подложку наносят позитивный электронорезист проводят экспонирование рисунка, проявление, наносят дополнительный слой материала и удаляют резист, а после проявления облучают сформированные в резисте элементы пучком электронов с энергией 1-5 Кэ...