Шаронов В.Н.

  Изобретение может быть использовано в технологии производства электронных приборов. Цель изобретения заключается в очистке плазменного потока от микро- и макрокапель, а также нейтральных частиц, наличие которых снижает качество формируемого покрытия, тем самым сужая область применения данной технологии. Цель достигается за счет использования сепаратора, расположенного в рабочем объеме на...

 Использование: вакуумно-плазменная технология, для нанесения покрытий на длинномерные изделия как в электронной технике, так и в производстве изделий массового потребления. Сущность изобретения: вакуумно-дуговой источник плазмы, содержащий протяженный катод с дугогасящим экраном, расположенным со стороны токоподвода к катоду, поджигающий электрод и анод, снабжен протяженной магнитной сист...