Кирев Р.М.

 Изобретение относится к способам нанесения покрытий ионной имплантацией и может быть использовано в электронной и других отраслях промышленности. Сущность изобретения: имплантацию ионов в мишень осуществляют на глубину, превышающую проецированный пробег ионов при одновременной бомбардировке мишени электронами из плазмы электродугового испарителя при положительном потенциале на мишени. 1 и...