Амиров И.И.

 Использование: газовая смесь для плазмохимического травления кремния в производстве полупроводниковых приборов и интегральных микросхем. Сущность изобретения: газовая смесь для плазмохимического травления кремния содержит CF6, O2 и CF2Cl2 при следующем соотношении компонентов, мас.ч.: SF6 1,0, CF2Cl2 0,3 - 3,0, O2 6,0 - 8,5. Использование смеси позволяет уменьшить радиационные повреждения...

 Использование: в производстве интегральных схем. Сущность: на материал, помещенный на подложкодержатель, находящийся в магнитном поле и под ВЧ-напряжением частотой 13,56 Мгц, воздействуют химически активной плазмой ВЧ-индукционного разряда пониженного давления вне зоны ее преимущественной генерации, плазму генерируют ВЧ-индукционным разрядом частотой 40-500 МГц в магнитном поле напряженно...