Кудрявцева Нина Васильевна

  Использование: микроэлектроника, формирование элементов И С Сущность изобретения, внедрение примеси в материал подложки проводят в плазменной среде, сформированной в виде плазменного потока атмосферного давления при тем4 пературе не менее 10 К, образованного тремя сходящимися струями, в зону слияния которых подают легирующую примесь, а последующий отжиг проводят путем пересечения...