Баблюк Е.Б.

 Основа для кинофотоматериалов, состоящая из полиэтилентерефталатной подложки, промежуточного слоя, выполненного из сополимера терефталевой кислоты, этиленгликоля и диэтиленгликоля, и подслоя, включающего гидрофильный сополимер, отличающаяся тем, что, с целью улучшения адгезии эмульсионного слоя к подложке и повышения стабильности фотографических свойств материалов во времени, она в подсло...

 Основа для кинофотоматериалов, состоящая из полиэтилентерефталатной подложки и адгезионного полимерного слоя, отличающаяся тем, что, с целью повышения адгезии желатинового эмульсионного слоя к подложке, упрощения технологии и улучшения условий труда при изготовлении основы, адгезионный полимерный слой выполнен из соединения формулы где n = 2-3, с мол.м. 460-610 с наносом указанного соеди...

 Композиция адгезионного подслоя для основы кинофотоматериалов, включающая желатину, нитроцеллюлозу, салициловую кислоту, воду и метанол, отличающаяся тем, что, с целью повышения сохраняемости фотографических свойств, увеличения срока хранения основы, адгезии и прочности эмульсионного слоя к подложке, она дополнительно содержит формалин и оксипроизводное бензола, выбранное из ряда: резорци...

 Композиция желатинового адгезионного подслоя для основы кинофотоматериалов, включающая нитроцеллюлозу, желатинообразное соединение - салициловую кислоту, метанол и воду, отличающаяся тем, что, с целью повышения срока хранения подслоированной основы, увеличения сохраняемости фотографических свойств фотоматериалов, а также повышения адгезии эмульсионного слоя к подложке, в качестве желатино...

 Основа для кинофотоматериалов, состоящая из полиэтилентерефталатной подложки и последовательно расположенных на ней промежуточного слоя из сополимера этиленгликоля, диэтиленгликоля и терефталевой кислоты и верхнего слоя, включающего сополимер метилметакрилата и малеиновой кислоты, структурной формулы I при соотношении m : n = 7 : 3, ММ 35000-40000 и натриевую соль алкил (С15 - С17) монос...

 Способ изготовления желатинового подслоя для основы кинофотоматериалов путем растворения желатины в органическом растворителе при перемешивании и нагревании в присутствии фталевой или малеиновой кислоты или их ангидрида, охлаждения реакционной массы до комнатной температуры, разбавления реакционной массы низкокипящим растворителем, полива на подложку и сушки полученного подслоя при нагрев...

 Основа для кинофотоматериалов, состоящая из полиэтилентерефталатной подложки и адгезионного слоя на основе сополимера этиленгликоля, диэтиленгликоля и терефталевой кислоты при молярном соотношении 0,5:0,65:1 и молекулярной массы 27000-30000, отличающаяся тем, что, с целью повышения прочности и адгезии эмульсионного слоя к подложке, повышения гарантийного срока хранения основы, а также упр...

 Способ изготовления основы для кинофотоматериалов путем двусторонней обработки полиэтилентерефталатной подложки коронным разрядом с частотой тока 10-40 кГц, ламинирования на обе стороны подложки полиэтилена высокого давления плотностью 0,91-0,98 и обработки коронным разрядом полученного полиэтиленового покрытия, отличающийся тем, что, с целью увеличении адгезии желатиновых фотографических...

  Использование: в производстве черно-белых негативных фотопленок. Сущность: введение перед началом эмульсификации в раствор галогенидов дополнительно NaCl при следующем соотношении компонентов, мас. NaCl 0,028 0,197, KBr 3,57 0,01, KI 0,27 + 0,01, H2O остальное, и соединения H(CF2)oCH2OH в количестве (5-15)10-3 М/М AgHal эмульсификацию проводят при температуре 70 75°С, используя растворы...

  Использование: в химико-фотографической промышленности. Сущность: в использовании для эмульсификации при температуре 40 55°С раствора, содержащего желатину, галогениды, обеспечивающие содержание в составе твердой фазы мол. AgBr 101,32, AgI 7,02, AgCl 2,07 16,59, и соединение H(CF2)10CH2OH (I) в количестве (5-15)10-3 М/М AgHal введении до начала химического созревания Na-соли изобутилбенз...

  Изобретение относится к новым антисептическим средствам. Область использования: в процессах изготовления галогенсеребряных фотографических материалов в кинофотопромышленности. Сущность изобретения: в качестве антисептического средства для желатиновых фотографических систем применяют полигексаметиленгуанидингидрохлорид ф-лы 1: . Новое антисептическое средство в сравнении с фенолом обеспеч...