Есин С.А.

 Изобретение относится к фотографии, в частности к фотополимеризующейся кеомпозиции (ФПК) для изготовления защитного рельефа матрицы гальванопластического наращивания. Повышение разрешающей способности при толщине фотополимерного слоя 150 - 500 мкм достигается введением в ФПК сополимера (СП) метакриловой кислоты и метилметакрилата формулы (C/O/OH)]450, с мол. мас. 90000 - 100000 и дополни...

 Изобретение относится к фотографии, в частности к фотополимеризующейся композиции для изготовления защитного рельефа гальванопластического наращивания. С целью увеличения разрешающей способности при толщинах слоев 20 - 45 мкм и прямоугольном профиле сечения рельефа, композиция включает следующее соотношение компонентов, мас. % : сополимер 15 - 36; диметакрилаттриэтиленгликоль 25 - 33; изо...

 Использование: изобретение относится к способам получения плоских изделий в технологии электронной техники, имеющих сложную структуру, методом гальванопластики. Сущность изобретения: на металлическое основание последовательно наносят два слоя фотополимеризующихся композиций следующего состава, мас. ч. (в порядке очередности): сополимер бутилметакрилат-(БМА)-метакриловая кислота (МАК), сод...