Левый А.С.

 Изобретение относится к экранирующим устройствам и может быть использовано в установках для нанесения резистивных покрытий. Устройство позволяет снижать и локализовать привносимую дефектность в процессе нанесения покрытий за счет отсоса загрязнений электретным экраном, охватывающим систему транспортирования устройства вдоль всего тракта перемещения, при этом не закрывая изделия от потока...

 Изобретение относится к нанесению тонких диэлектрических пленок путем ионного распыления материала в вакууме. Сущность изобретения: магнитная система выполнена в виде основных постоянных магнитов в форме швеллеров, установленных относительно друг друга одноименными полюсами, а внутри швеллеров расположены дополнительные постоянные магниты в форме швеллеров, установленные относительно друг...