Железнов Ф.К.
Изобретатель Железнов Ф.К. является автором следующих патентов:
![Способ формирования металлизации межсоединений для интегральных схем Способ формирования металлизации межсоединений для интегральных схем](/img/empty.gif)
Способ формирования металлизации межсоединений для интегральных схем
Изобретение относится к полупроводниковой технике и микроэлектронике и может быть использовано при производстве интегральных схем. Цель изобретения - повышение выхода годных интегральных схем за счет исключения дополнительного роста 1 пленок AITI и AITISI, а также увеличения стойкости к электромиграции и шипообразованию. Указанная цель достигается тем, что в интегральных схемах металлиза...
1707995![Способ создания сглаженного рельефа в интегральных схемах Способ создания сглаженного рельефа в интегральных схемах](/img/empty.gif)
Способ создания сглаженного рельефа в интегральных схемах
Сущность изобретения: способ включает формирование на полупроводниковой подложке с активными и пассивными элементами проводников различной ширины, нанесение диэлектрической пленки толщиной h 2.5 d, где d - толщина проводников, травление диэлектрической пленки жидкостным методом на глубину, равную толщине проводников, удаление фоторезиста и повторное травление диэлектрической пленки на глу...
1766214![Способ планаризации интегральных схем Способ планаризации интегральных схем](/img/empty.gif)
Способ планаризации интегральных схем
Использование: микроэлектроника, производство БИС и СБИС. Сущность изобретения: способ планаризации интегральных схем путем плазменного травления в индивидуальном диодном реакторе при давлении от 150 до 600Па и плотности ВЧ мощности от 3,5 до 8,0 Вт/см2 в четырехкомпонентной смеси при следующем соотношении компонентов, об. % : октофторпропан или тексафторэтан 13 - 70, гексафторид серы или...
2024992![Фильтрующий модуль с ребрами жесткости для фильтра тонкой очистки воздуха Фильтрующий модуль с ребрами жесткости для фильтра тонкой очистки воздуха](/img/empty.gif)
Фильтрующий модуль с ребрами жесткости для фильтра тонкой очистки воздуха
Использование: производство фильтров тонкой очистки воздуха (ФТОВ) в радиоэлектронной, атомной, химической, медицинской и биотехнологической промышленности. Сущность изобретения: в фильтрующем модуле, содержащем набор соединенных друг с другом чередующихся плоских и рельефных фильтрующих элементов (ФЭ) с плоскими краевыми панелями (П), все стенки каналов воздуха выполнены изоморфными по...
2031694![Способ удаления позитивного фоторезиста и устройство для его осуществления Способ удаления позитивного фоторезиста и устройство для его осуществления](/img/empty.gif)
Способ удаления позитивного фоторезиста и устройство для его осуществления
Использование: изобретение относится к технологии изготовления интегральных схем, в частности к способу и устройству для удаления позитивного фоторезиста с поверхности полупроводниковых подложек. Сущность изобретения: целью изобретения является повышение качества удаления фоторезиста за счет полного удаления граничной пленки с рабочей поверхности. Способ заключается в облучении ультрафиол...
2047931![Фильтрующий модуль карманного типа и фильтр тонкой очистки воздуха Фильтрующий модуль карманного типа и фильтр тонкой очистки воздуха](/img/empty.gif)
Фильтрующий модуль карманного типа и фильтр тонкой очистки воздуха
Использование: в радиоэлектронной, атомной, химической, медицинской и биотехнологической промышленности. Сущность изобретения: фильтрующий модуль содержит набор соединенных друг с другом чередующихся плоских и рельефных фильтрующих элементов (ФЭ) с плоскими краевыми панелями (П).Все стенки каналов воздуха выполнены изоморфными по структуре фильтровального материала (ФМ), П на рельефных Ф...
2048168