Чернышов А.И.

  Изобретение относится к микроэлектронике и может быть использовано на литографических операциях при изготовлении фотошаблонов Цель изобретения - увеличение тиражеаойкости фотошаблона На аеклянную подложку наносят слой органического материала - полиглицидилметакрилата с этилакрилатом толщиной от 1 до 4 мкм и облучают его ультрафиолетовым облучением в вакууме не ниже 1,3 Па Затем о...

  Использование: в электронной и радиотехнической отраслях промышленности. Сущность изобретения: устройство содержит реактор с вакуумной системой откачки и рабочей камерой с размещенными в ней емкостной системой возбуждения ВЧ-разряда и карасульным держателем, имеющим установленное на валу вращения кольцо, по периферии которого расположены стержневые опоры для колпачков, снабжено каналами...

 Изобретение относится к вакуумной электронной промышленности и предназначено для напыления тонких пленок, например резист-сплава типа РС-3710, ванадия, меди, никеля с использованием магнетронного эффекта. Сущность изобретения: устройство для осаждения тонких пленок представляет собой вакуумную камеру с входным и выходным отверстиями для рабочего газа, содержащую подложку, магнетронный ист...