Семчиков Ю.Д.

 Изобретение относится к фотографии, в частности к фотополимеризующейся композиции для изготовления защитного рельефа гальванопластического наращивания. С целью увеличения разрешающей способности при толщинах слоев 20 - 45 мкм и прямоугольном профиле сечения рельефа, композиция включает следующее соотношение компонентов, мас. % : сополимер 15 - 36; диметакрилаттриэтиленгликоль 25 - 33; изо...

  Использование: в электроннолучевой литографии и микроэлектронике. Сущность изобретения: композиция для получения позитивного электронно- и рентгенорезиста содержит 8 15 мас. полиметилметакрилата с мол. м. 125000 439000 и молекулярно-массовым распределением 1,5 1,85, полученный в присутствии 0,5 1,5 мас. органогидридолигосилана в диметиловом эфире диэтиленгликоля. Раствор наносят на пласт...