Булгакова С.А.

  Использование: в электроннолучевой литографии и микроэлектронике. Сущность изобретения: композиция для получения позитивного электронно- и рентгенорезиста содержит 8 15 мас. полиметилметакрилата с мол. м. 125000 439000 и молекулярно-массовым распределением 1,5 1,85, полученный в присутствии 0,5 1,5 мас. органогидридолигосилана в диметиловом эфире диэтиленгликоля. Раствор наносят на пласт...