Шмелев Н.И.

  Использование: микроэлектроника, финитная обработка пластин арсенида галлия после химико-механической полировки для удаления нарушенного слоя и последующей консервации поверхности. Сущность изобретения: при химико-динамической обработке пластин арсенида галлия пластины размещают на вращающемся держателе соосно с осью вращения, травление пластин проводят подавая реактив струей, направленн...