Аннапольский В.Д.

 Использование: для изготовления сухих пленочных фоторезисторов (СПФ). Сущность изобретения: способ изготовления СПФ водно-щелочного проявления поливом на ПЭТФ основу раствора, включающего мас. агент набухания-трихлоруксусную кислоту 7 9, бустиран 2 3, растворитель 96%-ный этан остальное, высушиванием политого слоя и сматыванием политого материала в рулон. Рулон легко разматывается, основа...